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高純?yōu)R射靶材
發(fā)布于2023-09-25 11:59:13
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利用離子源產(chǎn)生的離子轟擊固體表面,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體稱為濺射靶材, 是集成電路制造過程中的關鍵材料
根據(jù)應用領域,分為半導體靶材、面板靶材、光伏靶材等。高純?yōu)R射靶材制造環(huán)節(jié)技術門檻高、設備投資大,在濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)的企業(yè)數(shù)量呈現(xiàn)金字塔型分布
半導體濺射靶材行業(yè)集中度很高,前五大廠商占比超過80%。具有規(guī)?;a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對較少,主要分布在美國、日本等國家和地區(qū)。
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